投资评级：看好（维持）证券研究报告行业专题报告电子2025年9月3日光掩模及空白掩模行业研究--集成电路制造的光刻蓝本请务必仔细阅读正文之后的评级说明和重要声明证券分析师姓名：葛星甫资格编号：S1350524120001邮箱：gexingfu@huayuanstock.com主要内容1.光掩模：集成电路制造的光刻蓝本2.空白掩模：光掩模之核3.产业主要公司4.风险提示光掩模是连接IC设计与制造的关键图形蓝本n掩膜版（Photomask）又称光罩、掩模版、光刻掩膜版等，是液晶显示器、半导体等制造过程中的图形“底片”转移用的高精密工具。光掩模用于下游电子元器件制造业批量生产，是下游电子元器件制造业流程衔接的关键部分，是下游产品精度和质量的决定因素之一，是产业链中不可或缺的工具，具有资本密集、技术密集的特点。n光掩模是由不透明...